Intel官方宣布,位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的全球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,型号为“Twinscan EXE:5000”,它将帮助Intel继续推进摩尔定律。
Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机,将用于计划今年量产的Intel 18A制造工艺,也就是1.8nm级别。
Intel还第一个下单了改进型的Twinscan EXE:5200,将在2025-2026年用于更先进工艺。
根据此前报道,ASML将在2024年生产最多10台新一代高NA EUV光刻机,其中Intel就定了多达6台。
到了2027-2028年,ASML每年都能生产20台左右的高NA EUV光刻机。
新光刻机的价格估计至少3亿美元,甚至可能达到或超过4亿美元,也就是逼近人民币30亿元,而现有低NA EUV光刻机需要2亿美元左右。