光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模损坏，该领域目前仍由荷兰 ASML、日本三井化学主导，而韩国 S&S Tech 等后来居上者也是主要供应商之一。
报道称，三星电子已经自主开发出了透光率高达 88% 的 EUV 薄膜，有助于实现供应链多元化和稳定。据证实，这款透光率 88% 的 EUV 薄膜产品已经可以大规模生产。
▲ EUV 薄膜（pellicle） 图源：ASML
IT之家获悉，三星电子在去年的 2021 Foundry Forum 上宣布自研 EUV 薄膜，当时还公开宣布他们开发出了 82% 透光率薄膜技术，并宣布到 2022 年将拥有 88% 透光率的量产系统。
值得一提的是，韩国公司 S&S Tech 在 2021 年生产成功开发出了透光率达 90% 的半导体 EUV 薄膜，一举成为除了 ASML 之外另一家成功开发出了透光率超过 90% 的 EUV 薄膜的公司。据称，三星对它的要求是将比率提高到 94%。
业界预测，今年 EUV 薄膜的需求将比去年增加近 2 倍，而韩国国产的 EUV 薄膜最早将会在 1~2 年内商用化。此外，台积电也正在加快开发自己的产品以确保 EUV 薄膜可控。
▲ ASML 曝光过程图 
