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2021/3/15 10:05

3nm技术亮相!三星分享最新3GAE工艺细节

集微网  

三星在最近的IEEE国际固态电路会议上,分享了自家在3nm GAE MBCEFET芯片制造方面的一些细节。

根据DigiTimes发布的最新把报告,台积电的3nm工艺将在今年下半年开始试产。近年来,三星和台积电在先进工艺制程方面的竞争愈发激烈。虽然三星一直处于落后于台积电的位置,但也在不停追赶。

据悉,在3nm工艺方面,台积电仍是坚持使用FinFET技术,但三星却选择了向纳米片晶体管过渡。

根据三星电子副总裁Taejoong Song在会上的说法,纳米片结构的晶体管将是一个成功的设计,因为这一技术可以提供“高速度、低功耗和小面积”。

其实,早在2019年,三星就抢先公布了3nm工艺,并明确表示放弃FinFET。三星将旗下的3nm工艺分为3GAE和3GAP,在会上三星表示,3GAE工艺节点将会实现高达30%的性能提升,同时功耗可以降低50%,晶体管密度也可以提高80%。

由于在7nm、5nm工艺节点上都落后于台积电,所以三星对于3nm工艺寄予厚望,希望借纳米片晶体管实现对台积电的超车。

据悉,三星的3GAE工艺预计将在2022年正式推出,而此次在会上展示的诸多细节也表明,三星在3nm工艺方面又往前迈了一步。

从三星3GAE工艺推出的时间节点来看,三星和台积电无疑将在2022年,针对3nm先进工艺,展开更为激烈的比拼。

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