C114通信网  |  通信人家园

资讯
2019/5/22 11:24

我国芯片设计已达7nm 光刻机国际先进水平

驱动之家  

半导体是国内目前大力发展的产业,也是国内公司对美国依赖最多的行业之一。在设计、制造及封装三个环节中,国内公司在封测行业发展的还不错,江苏长电科技是全球第三大封测公司,TOP10厂商中有三家国内公司。

上海政府:芯片设计能力已达7nm 光刻机国际先进水平

国内比较薄弱的是半导体设计及制造,尤其是半导体工艺,目前台积电、三星Intel已经量产了10nm及7nm工艺,国内目前最先进的量产工艺还是28nm,14/12nm工艺尚未正式量产,差距至少有两三代,而高性能芯片更依赖先进工艺。

日前上海市政府举行了新闻发布会,副市长吴清和上海市经信委总工程师张英分别介绍了上海加快建设具有全球影响力的科技创新中心五年以来的主要进展以及未来上海加快建设具有全球影响力的科技创新中心的计划。

吴清表示,2018年上海集成电路产业销售规模达1450亿元,占全国的1/5,目前在全力打造集成电路创新高地。

根据吴市长的消息,在半导体设计领域,部分企业研发能力已达7纳米,紫光展锐手机基带芯片市场份额位居世界第三。

在半导体制造领域,中芯国际、华虹集团年销售额在国内位居前两位,28纳米先进工艺已量产,14纳米工艺研发基本完成。

在装备材料领域,中微、上微处于国内领先水平,刻蚀机、光刻机等战略产品已达到或接近国际先进水平。

给作者点赞
0 VS 0
写得不太好

  免责声明:本文仅代表作者个人观点,与C114通信网无关。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺,请读者仅作参考,并请自行核实相关内容。

热门文章
    最新视频
    为您推荐

      C114简介 | 联系我们 | 网站地图 | 手机版

      Copyright©1999-2024 c114 All Rights Reserved | 沪ICP备12002291号

      C114 通信网 版权所有 举报电话:021-54451141